近年随着科技的一直提高和国民需求的日益增添，我国半导体消费行业得到了较快的开展，然而随之而来是少量的半导体废水排放问题。下面太阳游戏城官网来给大家介绍一下半导体芯片废水处太阳游戏城官网艺：
（1）二级反映＋一级助凝＋一级积淀，体系出水氟离子浓度基础到达＜Zomg÷L请求；若增添一级积淀，即用二级反映＋积淀＋一级反映＋积淀的两阶段积淀反映，体系出水氟离子浓度可掌握在10mg/L以下。
（2）浓氨吹脱吸出工艺－含氟废水两阶段积淀工艺（含氟废水与CMP研磨废水混杂解决）一三级酸碱中和解决工艺。
（3）两级反映池、酸碱原液间接投加，运行出水不稳固且药剂消费量很大。
（4）反冲刷过滤器，是一种应用滤网间接阻拦水中的杂质，去除水体悬浮物、颗粒物，下降浊度，污染水质，增添体系污垢、菌藻、锈蚀等发生，以污染水质及掩护体系其余装备正常任务的装备。经反冲刷过滤器解决后的水质岂但到达了国度规则的废水排放规范，经反冲刷过滤器解决后的水源可反复、循环应用有效的节俭了水资源。
